真空高溫梯度加熱臺
點擊量：115次?|?發布時間：2026-01-14
一、概述
真空高溫梯度加熱臺，使用兩片氮化硼絕緣加熱片，對指定長條型金屬樣品兩端分別進行加熱，并使樣品兩端達到不同溫度，同時加熱回路與樣品間具有一定絕緣性。另外包含一個加熱測試真空室。
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二、技術參數要求
可安裝金屬樣品尺寸：14*6*1mm
加熱臺工作環境：真空環境，真空度好于1*10-4Pa
加熱要求：中心6mm長度區域內形成溫差，在該區域的兩端分別安裝熱電偶進行測溫，并能夠分別進行溫度控制：一端為700℃，另一端為400℃。
加熱臺外形：尺寸不大于100*100*100mm。金屬樣品正面無遮擋，不影響束流及紅外測溫。
加熱臺輸入電流/電壓要求：直流，電壓不超過40V。加熱臺底座帶真空水冷臺，水冷臺尺寸不超過160*120*30mm。
絕緣要求：在達到上述要求溫度時，加熱回路對樣品的漏電流小于1微安。
氮化硼絕緣加熱片：電阻小于10歐，600℃以下漏電流小于10nA，最高工作溫度1500℃，最大功率不小于200W，附帶2個50mm長M2的Ta電極螺桿，以及4個M2的Ta螺母。
加熱測試真空室：真空室腔體尺寸不小于300mm*200mm*130mm，壁厚不小于8mm。上蓋板采用O圈密封，兩側具有CF100法蘭接口及CF80法蘭接口。CF80法蘭可與CF80真空插板閥連接，CF100法蘭蓋板焊接2個水冷管路接口。真空室側壁上具有1個高真空BNC連接器及1個14芯真空密封航空插頭。真空室漏率好于1*10-9Pa*m3/s。供貨方依據以上技術參數進行設計及加工制作。
